Escáner de litografía EUV
TWINSCAN EXE:5000
Intel und ASML teilten mit, dass mehr als eine Million Wafer mit High-NA-EUV-Lithografie bearbeitet wurden. Die Gesamtzahl umfasst Tests, Forschung und Produktion auf ausgewählten Schichten: Sie ist ein Meilenstein des industriellen Lernens, aber keine direkte Messgröße für Ausbeute, Kosten oder kommerzielles Volumen.
- Marke
- ASML
- Modell
- EXE:5000
- Generation
- High-NA EUV, apertura numérica 0,55
- Status
- Verfügbar
Eindeutige Identifikation
Varianten
| Variante | MPN / SKU | Markt | Konfiguration |
|---|---|---|---|
| TWINSCAN EXE:5000 | EXE:5000 | — | Apertura numérica: 0,55 |
Dokumentierte Daten
Spezifikationen
- Apertura numérica
- 0,55
- Resolución
- 8 nm
Beziehungen
Technologien und Standards
- technologyLitografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High-NA EUV)
Redaktioneller Kontext