Escáner de litografía EUV
TWINSCAN EXE:5000
Intel et ASML ont indiqué que plus d’un million de wafers avaient été traités par lithographie High-NA EUV. Ce total regroupe essais, recherche et production sur certaines couches : il s’agit d’une étape d’apprentissage industriel, et non d’une mesure directe du rendement, des coûts ou du volume commercial.
- Marque
- ASML
- Modèle
- EXE:5000
- Génération
- High-NA EUV, apertura numérica 0,55
- Statut
- Disponible
Identification exacte
Variantes
| Variante | MPN / SKU | Marché | Configuration |
|---|---|---|---|
| TWINSCAN EXE:5000 | EXE:5000 | — | Apertura numérica: 0,55 |
Données documentées
Caractéristiques
- Apertura numérica
- 0,55
- Resolución
- 8 nm
Relations
Technologies et normes
- technologyLitografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High-NA EUV)
Contexte éditorial