Escáner de litografía EUV
TWINSCAN EXE:5000
A Intel e a ASML comunicaram que mais de um milhão de wafers foram processados com litografia High-NA EUV. O total reúne testes, investigação e produção em camadas selecionadas: é um marco de aprendizagem industrial, não uma medida direta de rendimento, custos ou volume comercial.
- Marca
- ASML
- Modelo
- EXE:5000
- Geração
- High-NA EUV, apertura numérica 0,55
- Estado
- Disponível
Identificação exata
Variantes
| Variante | MPN / SKU | Mercado | Configuração |
|---|---|---|---|
| TWINSCAN EXE:5000 | EXE:5000 | — | Apertura numérica: 0,55 |
Dados documentados
Especificações
- Apertura numérica
- 0,55
- Resolución
- 8 nm
Relações
Tecnologias e normas
- technologyLitografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High-NA EUV)
Contexto editorial