Escáner de litografía EUV
TWINSCAN EXE:5000
Sistema de litografía EUV High-NA descrito por ASML como la primera plataforma de su generación con apertura numérica 0,55.
- Marca
- ASML
- Modelo
- EXE:5000
- Generación
- High-NA EUV, apertura numérica 0,55
- Estado
- Disponible
Identificación exacta
Variantes
| Variante | MPN / SKU | Mercado | Configuración |
|---|---|---|---|
| TWINSCAN EXE:5000 | EXE:5000 | — | Apertura numérica: 0,55 |
Datos documentados
Especificaciones
- Apertura numérica
- 0,55
- Resolución
- 8 nm
Relaciones
Tecnologías y estándares
- technologyLitografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High-NA EUV)
Contexto editorial