Escáner de litografía EUV
TWINSCAN EXE:5000
Intel e ASML hanno comunicato che sono stati lavorati più di un milione di wafer con la litografia High-NA EUV. Il totale comprende test, ricerca e produzione su livelli selezionati: è una tappa di apprendimento industriale, non una misura diretta della resa, dei costi o dei volumi commerciali.
- Marchio
- ASML
- Modello
- EXE:5000
- Generazione
- High-NA EUV, apertura numérica 0,55
- Stato
- Disponibile
Identificazione esatta
Varianti
| Variante | MPN / SKU | Mercato | Configurazione |
|---|---|---|---|
| TWINSCAN EXE:5000 | EXE:5000 | — | Apertura numérica: 0,55 |
Dati documentati
Specifiche
- Apertura numérica
- 0,55
- Resolución
- 8 nm
Relazioni
Tecnologie e standard
- technologyLitografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High-NA EUV)
Contesto editoriale